ナノテクノロジー向けハイパフォーマンスEBリソグラフィシステム 一式

ID: 327041 種別: 資料提供招請に関する公表

基本情報

調達機関および所在地
国立大学法人愛知県
公示日
2013年05月01日
公示の種類
資料提供招請に関する公表
機関名詳細および所在地詳細
国立大学法人名古屋大学 財務担当理事 藤井 良一

詳細情報

                         次のとおり物品の導入を予定していますので、当該導入に関して資料等の提 供を招請します。                             平成 25 年5月1日                               国立大学法人名古屋大学                           財務担当理事 藤井 良一               ◎調達機関番号 415 ◎所在地番号 23               ○第2号                                1 調達内容                               (1) 品目分類番号 24                       (2) 導入計画物品及び数量 ナノテクノロジー向けハイパフォーマンス EBリソグラフィシステム 一式                      (3) 調達方法 購入等                        (4) 導入予定時期 平成25年度10月以降              (5) 調達に必要とされる基本的な要求要件                A 最大100kVの電圧で加速された電子ビームを試料上3nm未満に 集光できること。この時,電子ビームの電流値は100pA以上で,電流値揺 らぎは0.1%以下であること。                       B 電子ビーム偏向により2mm×2mmの大面積描画を行うことができ? ??こと。また,フィールド端まで中心部分と変わらない精度で描画が行えるこ? ??。                                 ? ?? C 試料ステージはレーザ測長器により1nm以下の精密な位置決めが可? ??であり、高さセンサによる試料高さ自動補正機能を持つこと。      ? ?? D ビーム偏向フィールドと試料ステージ移動により150mm×150?? ?m以上の描画領域を持ち、フィールドつなぎ精度が±9nm以内であること。                                      E ビームの偏向歪み、偏向湾曲,偏向非点補正機能を有し、また、ビーム 偏向と試料ステージとの間の振幅、回転の補正機能を有すること。       F 10個以上の試料ホルダーを予備室から自動搬送できること。      G CADデータ生成・変換プログラムを備え、コンピュータ制御により パターン自動描画ができること。                       H アラインメントマーク検出による位置決め・歪み補正機能を有し、複 数の描画を±9nm以内の精度で重ね合わせることができること。     ? ?? 資料及びコメントの提供方法 上記1(2)の物品に関する一般的な参考? ??料及び同(5)の要求要件等に関するコメント並びに提供可能なライブラリ? ??に関する資料等の提供を招請する。                  ? ??(1) 資料等の提供期限 平成25年6月3日 (2013年6月3日)17時00分(郵送の場合? ??必着のこと。)                           ? ??(2) 提供先 〒464―8601 名古屋市千種区不老町 名古屋大学? ??部2号館2階財務部契約課 小川 晃史 電話052―789―5527 ? ?? 説明書の交付 本公表に基づき応募する供給者に対して導入説明書を交付? ??る。                                  (1) 交付期間 平成25年5月1日 (2013年5月1日)から平成25年6月3日 (2013年6月3日)まで。    (2) 交付場所 上記2(2)に同じ。                4 説明会の開催 本公表に基づく導入説明会を開催する。          (1) 開催日時 平成25年5月9日 (2013年5月9日)14時00分            (2) 開催場所 名古屋大学IB電子情報館北棟5階電気系会議室    5 その他 この導入計画の詳細は導入説明書による。なお、本公表内容は予 定であり、変更することがあり得る。                  

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