ナノテクノロジー向けハイパフォーマンスEBリソグラフィシステム 一式
基本情報
- 調達機関および所在地
- 国立大学法人 (愛知県)
- 公示日
- 2013年05月01日
- 公示の種類
- 資料提供招請に関する公表
- 機関名詳細および所在地詳細
- 国立大学法人名古屋大学 財務担当理事 藤井 良一
詳細情報
次のとおり物品の導入を予定していますので、当該導入に関して資料等の提
供を招請します。
平成 25 年5月1日
国立大学法人名古屋大学
財務担当理事 藤井 良一
◎調達機関番号 415 ◎所在地番号 23
○第2号
1 調達内容
(1) 品目分類番号 24
(2) 導入計画物品及び数量 ナノテクノロジー向けハイパフォーマンス
EBリソグラフィシステム 一式
(3) 調達方法 購入等
(4) 導入予定時期 平成25年度10月以降
(5) 調達に必要とされる基本的な要求要件
A 最大100kVの電圧で加速された電子ビームを試料上3nm未満に
集光できること。この時,電子ビームの電流値は100pA以上で,電流値揺
らぎは0.1%以下であること。
B 電子ビーム偏向により2mm×2mmの大面積描画を行うことができ?
??こと。また,フィールド端まで中心部分と変わらない精度で描画が行えるこ?
??。 ?
?? C 試料ステージはレーザ測長器により1nm以下の精密な位置決めが可?
??であり、高さセンサによる試料高さ自動補正機能を持つこと。 ?
?? D ビーム偏向フィールドと試料ステージ移動により150mm×150??
?m以上の描画領域を持ち、フィールドつなぎ精度が±9nm以内であること。
E ビームの偏向歪み、偏向湾曲,偏向非点補正機能を有し、また、ビーム
偏向と試料ステージとの間の振幅、回転の補正機能を有すること。
F 10個以上の試料ホルダーを予備室から自動搬送できること。
G CADデータ生成・変換プログラムを備え、コンピュータ制御により
パターン自動描画ができること。
H アラインメントマーク検出による位置決め・歪み補正機能を有し、複
数の描画を±9nm以内の精度で重ね合わせることができること。 ?
?? 資料及びコメントの提供方法 上記1(2)の物品に関する一般的な参考?
??料及び同(5)の要求要件等に関するコメント並びに提供可能なライブラリ?
??に関する資料等の提供を招請する。 ?
??(1) 資料等の提供期限 平成25年6月3日 (2013年6月3日)17時00分(郵送の場合?
??必着のこと。) ?
??(2) 提供先 〒464―8601 名古屋市千種区不老町 名古屋大学?
??部2号館2階財務部契約課 小川 晃史 電話052―789―5527 ?
?? 説明書の交付 本公表に基づき応募する供給者に対して導入説明書を交付?
??る。
(1) 交付期間 平成25年5月1日 (2013年5月1日)から平成25年6月3日 (2013年6月3日)まで。
(2) 交付場所 上記2(2)に同じ。
4 説明会の開催 本公表に基づく導入説明会を開催する。
(1) 開催日時 平成25年5月9日 (2013年5月9日)14時00分
(2) 開催場所 名古屋大学IB電子情報館北棟5階電気系会議室
5 その他 この導入計画の詳細は導入説明書による。なお、本公表内容は予
定であり、変更することがあり得る。