次のとおり物品の導入を予定していますので、当該導入に関して資料等の提 供を招請します。　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　平成　１５　年４月　１１　日　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　　　　　　　大阪大学事務局長　北見　耕一　　　　　　　　　　　　　　 ◎調達機関番号　０１６　◎所在地番号　２７　　　　　　　　　　　　　　 ○第９号　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 １　調達内容　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　（１）　品目分類番号　２４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　（２）　導入計画物品及び数量　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　　　超高純度ガス供給システム　一式　　　　　　　　　　　　　　　　　 　（３）　調達方法　購入等　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　（４）　導入予定時期　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　　　平成１５年度第４・四半期以降　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　（５）　調達に必要とされる基本的な要求要件　　　　　　　　　　　　　 　　Ａ　導入を計画している超高純度ガス供給システム（以下、「本システム 」という。）は、プラズマＣＶＭ及び大気圧プラズマＣＶＤ装置を稼動するに あたり、超高純度のプロセスガスを精密に組成制御して安全に供給するととも に、有害な排出ガスを安全値まで除害すること。　　　　　　　　　　　　　 　　Ｂ　本システムは、プロセスガス供給・排気システム、ガス超高純度精製 装置、プロセスガス流量精密制御装置、排ガス処理装置、ガス漏洩検知警報シ ステムから構成されること。尚、本システムは、「高圧ガス保安法」に準じて 設計されたものであること。　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　　Ｃ　プロセスガス供給・排気システム　プラズマＣＶＭおよび大気圧プラ ズマＣＶＤの各プロセス装置等で使用する各種の不活性ガスおよび特殊ガスを 安全に貯蔵するとともに、それらのガスをガス超高純度精製装置やプロセスガ ス流量制御装置を経由して各プロセス装置まで搬送すること。また、各プロセ ス装置の排気ポンプからの有害な排出ガスを排ガス処理装置まで搬送すること 。　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　　Ｄ　ガス超高純度精製装置　プラズマＣＶＭおよび大気圧プラズマＣＶＤ の各プロセス装置等で使用するガスを超高純度に精製すること。　　　　　　 　　Ｅ　プロセスガス流量精密制御装置　真空状態のプラズマＣＶＭおよび大 気圧プラズマＣＶＤの各プロセス装置等に対して、不活性ガスを含む複数のプ ロセスガスを同時に精密な流量制御を行いながら供給し、大気圧まで充填する こと。また、大気圧状態を維持したプロセスチャンバーに、不活性ガスを含む 複数のプロセスガスを同時に精密な流量制御を行いながら供給すること。　　 　　Ｆ　排ガス処理装置　プラズマＣＶＭおよび大気圧プラズマＣＶＤの各プ ロセス装置等の排気ポンプからの有害な排出ガスを無害化して放出すること。 　　Ｇ　ガス漏洩検知警報システム　クリーンルーム内およびボンベを保管す るシリンダーキャビネット内における有毒・可燃性ガスの漏洩を検知して警報 を発すると同時に、漏洩ガスのさらなる流出を防いで安全に処理する措置をと ること。また、クリーンルーム内における酸欠を防ぐためにクリーンルーム内 各所の酸素濃度を測定し、安全とされる許容濃度以下になった場合には警報を 発すること。　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 ２　資料及びコメントの提供方法　上記１（２）の物品に関する一般的な参考 資料及び同（５）の要求要件等に関するコメント並びに提供可能なライブラリ ーに関する資料等の提供を招請する。　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　（１）　資料等の提供期限　平成１５年５月１２日 (2003年5月12日)１７時００分（郵送の場 合は必着のこと。）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　（２）　提供先　〒５６５―０８７１吹田市山田丘１―１ 📍　大阪大学経理 部吹田調達センター室調達第三掛　蘆田　　実　電話０６―６８７９―４０１ ０　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 ３　説明書の交付　本公表に基づき応募する供給者に対して導入説明書を交付 する。　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　（１）　交付期間　平成１５年４月１１日 (2003年4月11日)から平成１５年５月１２日 (2003年5月12日)まで。 　（２）　交付場所　上記２（２）に同じ。　　　　　　　　　　　　　　　 ４　説明会の開催　本公表に基づく導入説明会を開催する。　　　　　　　　 　（１）　開催日時　平成１５年４月１８日 (2003年4月18日)１５時００分　　　　　　　　　 　（２）　開催場所　大阪大学工学部管理棟第１会議室　　　　　　　　　　 ５　その他　この導入計画の詳細は導入説明書による。なお、本公表内容は予 定であり、変更することがあり得る。