次のとおり物品の導入を予定していますので、当該導入に関して資料等の提 供を招請します。　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　平成　２３　年　１０　月　２６　日　　　　　　　　　　　　　　　　　 　　　　　　　国立大学法人名古屋工業大学　　　　　　　　　　　　　　　 　　　　　　　　　　　事務局長　前田　千尋　　　　　　　　　　　　　　 ◎調達機関番号　４１５　◎所在地番号　２３　　　　　　　　　　　　　　 ○第１号　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 １　調達内容　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　（１）　品目分類番号　２４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　（２）　導入計画物品及び数量　有機金属気相成長装置システム　一式　　 　（３）　調達方法　購入等　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　（４）　導入予定時期　平成２４年度３月以降　　　　　　　　　　　　　 　（５）　調達に必要とされる基本的な要求要件　　　　　　　　　　　　　 　　Ａ　ＭＯＣＶＤ装置（２台）　多数枚の基板上に常圧及び減圧下でＧａＮ 系薄膜が形成出来ること。成長中にその場観察が可能なこと。　　　　　　　 　　Ｂ　ドライ洗浄装置　ＭＯＣＶＤ装置で使用する反応炉内高純度石英製リ アクター内部品を加熱下、塩素系ガスでエッチング出来ること。　　　　　　 　　Ｃ　配管設備　ＭＯＣＶＤ装置への原料供給設備、除害設備、ドライ洗浄 装置、ガス警報設備及びこれらを結ぶ配管を有すること。　　　　　　　　　 　　Ｄ　供給設備　ＭＯＣＶＤ装置用に有機金属系、水素化物系、キャリアガ ス及びドライ洗浄装置用に塩素系ガスを有すること。　　　　　　　　　　　 　　Ｅ　除害設備　ＭＯＣＶＤ装置やドライ洗浄装置から排出されるガスの除 害塔、中和するための薬液及び廃液タンクを有すること。　　　　　　　　　 ２　資料及びコメントの提供方法　上記１（２）の物品に関する一般的な参考 資料及び同（５）の要求要件等に関するコメント並びに提供可能なライブラリ ーに関する資料等の提供を招請する。　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　（１）　資料等の提供期限　平成２３年１２月１日 (2011年12月1日)１７時００分（郵送の場 合は必着のこと。）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　（２）　提供先　〒４６６―８５５５　名古屋市昭和区御器所町字木市２９ 番　名古屋工業大学経理チームマネージャー（領域担当）　川那　武史　電話 ０５２―７３５―５０３９　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 ３　説明書の交付　本公表に基づき応募する供給者に対して導入説明書を交付 する。　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　（１）　交付期間　平成２３年１０月２６日 (2011年10月26日)から平成２３年１２月１日 (2011年12月1日)まで 。　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　（２）　交付場所　上記２（２）に同じ。　　　　　　　　　　　　　　　 ４　説明会の開催　本公表に基づく導入説明会を開催する。　　　　　　　　 　（１）　開催日時　平成２３年１１月７日 (2011年11月7日)１０時００分　　　　　　　　　 　（２）　開催場所　名古屋工業大学事務局会議室　　　　　　　　　　　　 ５　その他　この導入計画の詳細は導入説明書による。なお、本公表内容は予 定であり、変更することがあり得る。